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TiN涂層
TiC(碳化鈦),TiN(氮化鈦)等堅硬物質的涂層方法大致有兩種,化學氣相沉積法(CVD法)和物理氣相沉積法(PVD法)。
化學氣相沉積法的溫度為900-1100℃,已超過了高速鋼的回火溫度,所以不能用于高速鋼的表面涂層。
物理氣相沉積法溫度較低,在500℃以下,適合對高速鋼絲錐,銑刀的涂層,物理氣相沉積法中*具代表性,*常用的是HCD離子電鍍工藝。
HCD離子電鍍工藝的基本過程是:把涂層材料鈦(Ti)放于高真空槽內的坩中,用電子射線讓它熔解并與氮氣反應,使之在已預熱且受負電壓作用下的刀具表面上生成細密。牢固的氮化鈦(TiN)涂層,TiN涂層呈金黃色,與刀具母體的密著性很好。
TiN涂層與絲錐壽命的實驗結果,其中,圖的上部分刃傾角絲錐不經任何表面處理和經氧化處理,TiN涂層三者加工析出硬化系不銹鋼SUS630的情況,被切削材料易產生粘結,同時硬度高(45HRC),要求刀具有良好的抗粘結性和耐磨性,實驗結果表明,絲錐壽命經氧化處理的是不經氧化處理的3倍,而TiN涂層的又是氧化處理的3倍,圖的中部是被切削材料為S45C鋼的情況,下部為經氧化處理和TiN涂層的N型擠壓絲錐,加工SS400鋼的情況,同樣TiN涂層絲錐的壽命都約是氧化處理絲錐壽命的3倍。
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