鍍鉻液中Cr6+離子在陰極還原產生Cr3+，與此同時在陽極上重新被氧化，三價鉻濃度很快達成平衡，平衡濃度取決于陰、陽極面積比。Cr3+離子是陰極形成膠體膜的主要成分，只有當鍍液中含有一定量的Cr3+時，鉻的沉積才能正常進行。因此，新配制的鍍液必須采取適當的措施保證含有一定量的Cr3+。
①采用大面積陰極進行電解處理。
②添加還原劑將Cr6+還原為Cr3+，可以用作還原劑的有酒精、草酸、冰糖等，其中較為常用的是酒精（98%），用量為0.5mL/L。在加入酒精時，由于反應放熱，應邊攪拌邊加入，否則會使鉻酸濺出。加入酒精后，稍作電解，便可投入使用。
③添加一些老槽液。
普通鍍鉻液中Cr3+的含量大約在2～5g/L，也有資料報道是鉻酸含量的1%～2%，三價鉻的允許含量與鍍液的類型、工藝以及鍍液中雜質的含量有關。當Cr3+濃度偏低時，相當于硫酸根離子的含量偏高時出現的現象。陰極膜不連續，分散能力差，而且只有在較高的電流密度下才發生鉻的沉積；當Cr3+濃度偏高時，相當于硫酸根離子的含量不足，陰極膜增厚，不僅顯著降低鍍液的導電性，使槽電壓升高，而且會縮小取得光亮鍍鉻的電流密度范圍，嚴重時，只能產生粗糙、灰色的鍍層。當Cr3+的含量偏高時，也用小面積的陰極和大面積陽極，保持陽極電流密度為1～1.5A/dm2電解處理，處理時間視Cr3+的含量而定，從數小時到數晝夜。鍍液溫度為50～60℃時，效果較好。
（1）鍍液中各成分的作用
1）鉻酐
鉻酐的水溶液是鉻酸，是鉻鍍層的惟一來源。實踐證明，鉻酐的濃度可以在很寬的范圍內變動。例如，當溫度在45～50℃，陰極電流密度10A/dm2時，鉻酐濃度在50～500g/L范圍內變動，甚**達800g/L時，均可獲得光亮鍍鉻層。但這并不表示鉻酐濃度可以隨意改變，一般生產中采用的鉻酐濃度為150～400g/L之間。鉻酐的濃度對鍍液的電導率起決定作用，在每一個溫度下都有一個相應于*高電導率的鉻酐濃度；鍍液溫度升高，電導率*大值隨鉻酐濃度增加向稍高的方向移動。因此，單就電導率而言，宜采用鉻酐濃度較高的鍍鉻液。但采用高濃度鉻酸電解液時，由于隨工件帶出損失嚴重，一方面造成材料的無謂消耗，同時還對環境造成一定的污染。而低濃度鍍液對雜質金屬離子比較敏感，覆蓋能力較差。鉻酐濃度過高或過低都將使獲得光亮鍍層的溫度和電流密度的范圍變窄。含鉻酐濃度低的鍍液電流效率高，多用于鍍硬鉻。較濃的鍍液主要用于裝飾電鍍，鍍液的性能雖然與鉻酐含量有關，*主要的取決于鉻酐和硫酸的比值。
（1）防護一裝飾性鍍鉻
防護一裝飾性鍍鉻不僅要求鍍層在大氣中具有很好的耐蝕性，而且要有美麗的外觀。
這類鍍層也常用于非金屬材料的電鍍。
防護一裝飾性鍍鉻可分為一般防護裝飾鍍鉻與高耐蝕性防護裝飾鍍鉻。表4—28列出防護裝飾性鍍鉻的工藝規范。
裝飾性鍍鉻的工藝條件也取決于欲鍍的基體金屬材料?？筛鶕w材料的不同適當調整工作溫度和陰極電流密度。
金屬雜質可用強酸性陽離子交換樹脂處理而除去。為減小鍍鉻溶液對離子交換樹脂的氧化破壞，應先將鍍液稀釋至80g/L以下后再處理。由于強酸性陽離子交換樹脂價格較貴，因此有時也將廢了的鍍液轉為他用，如鈍化液等而降低生產成本。
新配制的鍍鉻液，電壓一般在3～5V，如濃度高時，電壓要低些。如果發現電壓大于前述值時，鍍液中可能含有雜質。Cl-來源于槽液補充水、零件清洗水等的帶入，或是鹽酸浸蝕后清洗不干凈帶入。Cl-過多會使鍍液分散能力與深度能力下降，鍍層發灰、粗糙、甚至出現花斑，還可引起基體及鉛陽極的腐蝕。消除過多的Cl-，可將鍍液加熱到70℃，大電流密度電解處理，使其在陽極上氧化為氯氣析出。但此法能耗大，效果也不十分理想；也可加入適量的碳酸銀，生成氯化銀沉淀，雖然此方法效果較好，但加入的碳酸銀還能與鉻酸反應生成鉻酸銀沉淀，不僅銀鹽消耗太多，又損失了鉻酐，增加了生產成本。*好的辦法是盡量減少Cl-帶入，因此補充槽液*好使用去離子水，鍍前的弱浸蝕采用稀硫酸溶液。必須采用鹽酸時，則加強清洗。NO3-是*有害的雜質，即使含量很低也會使鍍層發灰、失去光澤，并腐蝕鍍槽的鉛襯里和鉛陽極。除去NO3-的方法是：以每升電解液1A電流電解處理。若鍍液中NO3-含量較多時，先用BaCO3將鍍槽中的硫酸根除去，然后在65～80℃大電流電解處理，使硝酸根離子在陰極上還原為NH3而除去。
4）鉻霧的抑制
鍍鉻過程中，由于使用不溶性陽極，陰極電流效率又很低，致使大量氫氣和氧氣析出，當氣體逸出液面時，帶有大量的鉻酸，形成鉻霧造成嚴重的污染。目前抑制鉻霧的方法有兩種。
①浮體法將泡沫塑料碎塊或碎片放入鍍液的液面上，這些浮體可阻滯鉻霧的逸出，
但零件出槽時，操作不方便。另外鉻酸氧化能力很強，對加入的碎塊有浸蝕作用，使分解產物在鍍液中積累，也會影響鍍層質量。
②加入泡沫抑制劑 泡沫抑制劑是一種表面活性劑，能降低鍍液的表面張力，產生穩定的泡沫層，覆蓋在鍍液表面。一般的表面活性劑在較高溫度和有強氧化劑存在下不穩定，但氟碳型表面活性劑在上述介質中能穩定存在。據報道，已用作鉻霧抑制劑的有多種，其中*好的是含有極性基團的脂肪長鏈有機化合物，如全氟辛烷基磺酸鈉鹽[CF3(CF2)6CF2SO3Na]是*典型的一種，每升鍍液中加入量為0.2～0.5g/L時，即可達到良好的效果。中國已試制出全氟烷基醚磺酸鉀，簡稱F-53鉻霧抑制劑，在鍍鉻液中的添加量為0.04～0.06g/L。使用時，先將F-53用水調成糊狀，加水稀釋，煮沸溶解靜止片刻，轉入加熱至50～60℃的鍍鉻槽中，不能把不溶的F-53直接倒入鍍槽。
1一般防護裝飾性鍍鉻
一般防護裝飾性鍍鉻采用中、高濃度的普通鍍鉻液，適用于室內環境使用的產品。鋼鐵、鋅合金和鋁合金鍍鉻必須采用多層體系，主要工藝流程如下。
①鋼鐵基體銅/鎳/鉻體系工藝流程為：
除油→水洗→浸蝕→水洗→閃鍍氰銅或閃鍍鎳→水洗→酸銅→水洗→亮鎳→水洗→鍍鉻→水洗干燥。
多層鎳/鉻體系工藝流程為：
除油→水洗→浸蝕→水洗→鍍半光亮鎳→水洗→光亮鎳→水洗→鍍鉻→水洗→干燥。
②鋅合金基體弱堿化學除油→水洗→浸稀氫氟酸→水洗→電解除油→水洗→閃鍍氰銅→水洗→光亮鍍銅→光亮鎳→水洗→鍍鉻→水洗→干燥。
③鋁及鋁合金基體 弱堿除油→水洗→電解除油→水洗→次浸鋅→溶解浸鋅層→水洗一二次浸鋅→水洗→閃鍍氰銅（或預鍍鎳） →水洗→光亮鍍銅→水洗→光亮鍍鎳→水洗→鍍鉻→水洗→干燥。
在鍍鉻過程中陰極電流密度與溫度之間存在著相互依賴的關系。在同一溶液中鍍鉻時，通過調整溫度和電流密度，并控制在適當的范圍內，可以獲得光亮鉻、硬鉻和乳白鉻三種不同性能的鍍鉻層，如圖4-20所示。在低溫高電流密度區，鉻鍍層呈灰暗色或燒焦，這種鍍層具有網狀裂紋、硬度大、脆性大；高溫低電流密度區，鉻層呈乳白色，這種組織細致、氣孔少，無裂紋，防護性能較好，但硬度低，耐磨性差；中溫中電流密度區或兩者配合較好時，可獲得光亮鍍鉻層，這種鉻層硬度較高，有細而稠密的網狀裂紋。
鉻霧抑制劑在鍍液中形成的泡沫層，嚴密覆蓋在鍍液表面，當帶有鉻酸的氫氣和氧氣析出時，與表面的泡沫層相碰撞，無數微小的鉻酸霧結合成較大的霧滴，由于重力作用，當上升一定高度時將重回鍍液，而氫氣和氧氣繼續上升，直至離開液面，這樣實現氣體的排除和對鉻霧的有效抑制
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