專業低溫技術真空PVD鍍膜服務,PVD涂層,TiN涂層 ,TiCN涂層,TiAlN涂層, CrN涂層,DLC涂層,TiAlCrN涂層。其中DLC涂層工藝溫度為80~150度,其它涂層均小于280度
公司為新加坡獨資企業,公司的技術為自主國際(US11/041,789)的低溫PVD涂層技術(磁控陰極弧及強化磁控濺射),涂層時工作溫度<300度,涂層具有更好的綜合性能,此技術是PVD技術領域的一大突破,目前世界通用的PVD技術均為高溫技術,涂層溫度均在450度以上。此技術有效解決了高溫所帶來的種種弊端,如高溫回火,材料變形,焊縫開裂,脫落等等。
常見的制備DLC 薄膜的方法有真空蒸發 、濺射、等離子體輔助化學氣相沉積、離子注入
等。這些方法中, 傳統的真空蒸發鍍膜法具有較高的沉積速度, 生成的薄膜純度高, 但由于熱蒸發的原子或分子在基板上能量很低(約0??2 eV ), 其表面遷移率很低, 導致薄膜與基體結合強度差, 加上已經沉積的原子對后來飛到的原子會造成陰影效果, 使得真空蒸發鍍膜技術的應用受到很大的限制。離子注入法能使材料的摩擦因數、耐磨性、耐腐蝕性等發生顯著變化, 而且注入層與基體材料之間沒有清晰的界面, 因而與基體結合牢固, 表面不存在粘附破裂或剝落。然而, 離子注入的注入層太薄, 僅數百納米, 在耐磨工況下應用受到一定限制。
為了克服真空蒸發鍍膜法結合力差以及離子注入法注入層淺的問題, 科研人員把薄膜蒸發沉積與離子注入技術結合起來, 研究出了真空蒸發離子束輔助沉積技術[ 5, 6] 。該技術在用蒸發源(電子束) 將元素沉積在基片上的同時, 用離子轟擊鍍層, 以獲得比離子注入層更厚、比蒸發鍍膜法附著力更大的高性能致密膜層。因此這種方法有利于增強薄膜的摩擦學性能。本文作者用真空蒸發離子束輔助鍍膜的方法制備了DLC薄膜, 測試了其摩擦學性能, 并對DLC 薄膜的表面形貌對其摩擦學行為的影響進行了研究。
彈簧鋼及T i6A l4V球表面經真空蒸發離子束輔助鍍膜處理后形成了光滑、致密的DLC薄膜, 摩擦學試驗結果表明, DLC 薄膜降低了基體材料的摩擦因數, 改善了摩擦學性能。磨損表面的SEM 和AFM 分析表明, DLC 薄膜的表面磨損較軸承鋼為輕, 表現出輕微的磨損痕跡, 表明彈簧鋼基體經真空蒸發離子束輔助技術處理后, 表面摩擦學性能獲得顯著改善。AFM 分析還表明, T i6A l4V 球表面鍍DLC 薄膜后,磨痕表面比磨損前原始表面平整光滑, 表面粗糙度小, 其摩擦學性能在摩擦過程中進一步得到改善。
無定形碳雖然不與人體組織形成化學鍵合，但允許人體軟組織長入碳的空隙，形成牢固結合，碳周圍的人體軟組織可迅速再生，有人認為無定形碳具有誘發組織生長的作用。由于無定形碳獨特的表面組成和表面結構，與血液長期接觸引起的凝血作用非常小，不會誘發血栓，因而廣泛應用作心血管材料。
類金剛石碳(Diamond-like Carbon，DLC)中除無定型結構的碳之外，還包含有少量的金剛石微晶、石墨微晶等，其物理性能與金剛石非常相似。由于制備類金剛石的原料為碳氫化合物，因此在類金剛石中除碳外，還含有較多的碳-氫基團;隨其中碳-氫基團的種類和數量不同，類金剛石的性質亦有較大變化
1、力學性能
a.硬度及彈性模量。不同的沉積方法制備的DLC膜硬度及彈性模量差異很大，用磁過濾陰極電弧法可以制備出硬度達到甚至超過金剛石的DLC膜[10]，廣州有色金屬研究院用陰極電弧法制備的DLC膜*高硬度可達50GPa以上，而用離子源結合非平衡磁控濺射法制備的DLC膜硬度達21GPa[11]。膜層內的成分對膜層的硬度有一定的影響， Si、N的摻入可以提高DLC膜的硬度。DLC膜具有較高的彈性模量，雖低于金剛石（110GPa），但明顯高于一般金屬和陶瓷的彈性模量。
b.內應力和結合強度。薄膜的內應力和結合強度是決定薄膜的穩定性和使用壽命，影響薄膜性能的兩個重要因素，內應力高和結合強度低的DLC膜容易在應用中產生裂紋、褶皺，甚至脫落，所以制備的DLC膜*好具有適中的壓應力和較高的結合強度。大部分研究表明，直接在基體上沉積的DLC膜的膜/基結合強度一般比較低，廣州有色金屬研究院通過采用Ti/TiN/TiCN/TiC中間梯度過渡層的方法提高DLC膜與基體的結合強度，在模具鋼上沉積DLC膜的結合強度達44N-74N[12]，制備的膜導總體厚度可達5um。
本公司所制造的PVD真空鍍膜設備具有很強的通用性和柔性,單機可完成幾乎所有想要的單層及復合涂層,如TiN,TiCN,TiAlN,TiC,CrN,CrCN,DLC涂層,等等各類單層及復合涂層和納米涂層,
天然生成的金剛石常常發現有幾乎純結晶形式的立方取向的sp雜化的碳原子。有時候它們會有一些缺陷或者是雜質原子，這使它們有一定的顏色，但是晶格仍然是立方結構而且鍵合仍然是純粹的sp雜化。立方晶型的內部能量比六方晶型要略低，而且就從熔融材料中生長速率而言，無論是自然形成還是合成金剛石都足夠的慢，使得晶格有時間以*低的能量（立方）生長，從而使sp雜化的碳原子成為可能。相比之下，類金剛石碳是由具有高能量前驅碳（例如等離子體、陰極電弧沉積、濺射沉積以及離子束沉積）在相對冷的表面上快速冷卻或淬火而成。在這些情況下，立方晶格和六方晶格被一層層的隨機混合，因為在碳原子被“凍結”在材料表面之前并沒有足夠的結晶生長的時間。非晶類金剛石涂層可以導致沒有長程晶格有序。沒有長程有序就沒有脆性斷裂平面，因此涂層會比較有彈性、對基底材料的形狀有適應性，同時和金剛石一樣硬。事實上，這種性質已經被用來研究類金剛石碳在納米尺度上的原子間磨損。
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